湖南创未来机电设备制造有限公司

真空管式炉：实验室高温烧结与气氛控制的核心装备

真空管式炉是实验室高温烧结的关键设备。创未来机电GKD系列覆盖1100℃–1200℃温区，搭载PID智能控温与KF快接法兰系统，全面满足稀土制备、陶瓷烧结、合金热处理等场景对温度均匀性与气氛纯度的严苛要求。